1. 将硅片切成2cm×2cm的正方形，依次在超声仪中用丙酮、 乙醇、去离子水将其彻底清洗10min；

2. 配置腐蚀液，将氢氟酸和乙醇按照一定比例进行配置。在配置腐蚀液时一定要用塑料量筒进行配置，切记要做好安全措施，带好橡胶手套，防止液体溅出；

3. 把清洗好的样品放到腐蚀槽中，并在腐蚀槽上方20cm处放置卤素灯，光照强度为100 lux；注意卤素灯要安装牢固，防止掉落。

4. 将有效面积为0.785cm²的硅片浸泡于配置好的腐蚀液中；

5. 用Labview8.0软件对电流进行设置；

6. 以铜棒做为腐蚀电极的阴极，铜片作为腐蚀电极的阳极，打开设置好的程序，使电流从电源正极流到硅片，再从硅片流到电源负极；注意观察电流值变化，防止电流过大。

7. 腐蚀完毕后将腐蚀好的硅片拿出，用去离子水和酒精进行冲洗，然后将硅片吹干即可。样品吹干后必须立即关闭吹风机电源，并拔出电源插头。